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検索キーワード:(標準分類: TK7872.T55)
該当件数:3件
LPCVD silicon nitride and oxynitride films : material and applications in integrated circuit technology / F.H.P.M. Habraken (ed.)
: N.Y.,: Berlin. - Berlin : New York : Springer-Verlag , 1991. - (Research reports ESPRIT ; Project 369 ; vol. 1)
図書
Plasma deposited thin films / editors, J. Mort, F. Jansen
Boca Raton, Fla. : CRC Press , c1986
Thin film device applications / Kasturi Lal Chopra and Inderjeet Kaur
New York : Plenum Press , c1983