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RT Book, Whole SR Print DC OPAC T1 シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで / 谷口研二〔編〕 A1 谷口, 研二(1948-) YR 1991 FD 1991.7 SP 422p K1 シリコン(半導体) PB リアライズ社 PP 東京 SN 4947655445 LA Japanese (日本語) CL NDC8:549.8 CL NDLC:ND371 NO 各章末:参考文献 NO 書誌ID=B000071434; NCID=BN1064502X; LK [OPAC]https://lib.pu-toyama.ac.jp/opac/opac_link/bibid/B000071434 OL 58