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RT Book, Whole SR Print DC OPAC T1 ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役 / 布施玄秀, 平尾孝編著 T2 K books A1 布施, 玄秀(1951-) A1 平尾, 孝 YR 1991 FD 1991.6 SP 182p K1 半導体 K1 半導体 PB 工業調査会 PP 東京 SN 4769360800 LA Japanese (日本語) CL NDC8:549.8 NO 書誌ID=B000049071; NCID=BN06481370; LK [OPAC]https://lib.pu-toyama.ac.jp/opac/opac_link/bibid/B000049071 OL 58