OPAC

チョウ LSI レジストノブンシセッケイ
超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
(表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編 ; 11)

巻　次	配架場所	請求記号	登録番号	コメント	刷　年	状　態	利用注記	ISBN	予約	請求メモ
	射水-1階-和書	431.86\|\|H99\|\|11	101023091						予約		予約
	射水-1階-和書	431.86\|\|H99\|\|11	101023109						予約		予約

一般注記	文献: p [110]-113
件　名	BSH:集積回路 BSH:工業材料 BSH:薄膜 NDLSH:感光性樹脂 NDLSH:集積回路
分　類	NDC7:549.8 NDC8:549.7 NDC8:578.4 NDLC:PA441
書誌ID	B000073093
ISBN	4320085116
NCID	BN04656779