Electron-beam, X-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing : 6-7 March 1991, San Jose, California / Martin Peckerar, chair/editor : sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering
(Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 1465)
データ種別 | 図書 |
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出版者 | Bellingham, Wash. : SPIE |
出版年 | c1991 |
大きさ | x, 340 p. : ill. ; 28 cm |
著者標目 | Peckerar, Martin Charles, 1946- Society of Photo-optical Instrumentation Engineers |
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巻 次 | 配架場所 | 請求記号 | 登録番号 | コメント | 刷 年 | 状 態 | 利用注記 | ISBN | 予約 | 請求メモ |
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射水-1階-洋書 | 549.9||E45 | 101100576 |
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一般注記 | "Part of a two-conference program ... held at the SPIE Symposium on Microlithography, 3-8 March 1991"--P. viii Includes bibliographical references and index |
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件 名 | LCSH:Lithography, Electron beam -- Congresses
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LCSH:X-ray lithography -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Ion beam lithography -- Congresses 全ての件名で検索 |
分 類 | LCC:TK7874 DC20:621.3815/2 |
書誌ID | B000042225 |
ISBN | 0819405647 |
NCID | BA17140471 |
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