---

ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン・ムソンショウカ オ ジツゲン
光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著

データ種別	図書
出版者	東京 : 工業調査会
出版年	1994.3
本文言語	日本語
大きさ	266p : 挿図 ; 21cm
著者標目	高橋, 清 (1934-) 編著 <タカハシ, キヨシ>  松波, 弘之 (1939-) 編著 <マツナミ, ヒロユキ>  村田, 好正 (1935-) 編著 <ムラタ, ヨシタダ>  英, 貢 編著 <ハナブサ, ミツグ>  西澤, 潤一 (1926-2018) <ニシザワ, ジュンイチ>

 類似資料