OPAC

LPCVD silicon nitride and oxynitride films : material and applications in integrated circuit technology / F.H.P.M. Habraken (ed.)
(Research reports ESPRIT ; Project 369 ; vol. 1)

データ種別	図書
出版者	Berlin : New York : Springer-Verlag
出版年	1991
本文言語	英語
大きさ	x, 159 p. : ill. ; 25 cm
著者標目	Habraken, F. H. P. M.

巻　次	配架場所	請求記号	登録番号	コメント	刷　年	状　態	利用注記	ISBN	予約	請求メモ
	射水-1階-洋書	549.8\|\|L95	101107936						予約		予約

一般注記	Includes bibliographical references
件　名	LCSH:Thin film devices LCSH:Silicon nitride LCSH:Integrated circuits -- Very large scale integration -- Materials 全ての件名で検索 LCSH:Metal oxide semiconductors, Complementary
分　類	LCC:TK7872.T55 DC20:621.381/52
書誌ID	B000086916
ISBN	0387539549
NCID	BA14043559