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フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)

データ種別 図書
普及版
出版者 東京 : シーエムシー出版
出版年 2015.11
本文言語 日本語
大きさ vii, 317p : 挿図 ; 26cm
著者標目  上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル>

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射水-1階-和書 578.4||U32 101820249
2015
9784781310398

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別書名 標題紙タイトル:New trends of photoresists
一般注記 2009年刊の普及版
文献: 各章末
件 名 BSH:リソグラフィー
BSH:感光性樹脂
分 類 NDC8:549.7
NDC9:549.7
書誌ID B000157739
ISBN 9784781310398
NCID BB19937937

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