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Ion implantation technology : proceedings of the Seventh International Conference on Ion Implantation Technology, Kyoto, Japan, June 7-10, 1988 / edited under the responsibility of T. Takagi ... [et al.]
(Nuclear instruments & methods in physics research ; Section B. Beam interactions with materials and atoms ; v.37-38)

データ種別 図書
出版者 Amsterdam : North-Holland
出版年 1989
本文言語 英語
大きさ xx, 994 p. : ill. ; 27 cm
著者標目 *International Conference on Ion Implantation Technology (7th : 1988 : Kyoto, Japan)
Takagi, T.

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1988(第7回) 射水-1階-洋書 549.8||I57||88 101577583



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別書名 その他のタイトル:Ion implantation technology 7
一般注記 Includes bibliographical references and index
件 名 LCSH:Semiconductors -- Congresses  全ての件名で検索
LCSH:Ion implantation -- Congresses  全ての件名で検索
LCSH:Semiconductor doping -- Congresses  全ての件名で検索
分 類 LCC:TK7871.85
DC20:621.3815/2
書誌ID B000092047
NCID BA36830910

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