OPAC

Dry etching for VLSI / A.J. van Roosmalen, J.A.G. Baggerman, and S.J.H. Brader
(Updates in applied physics and electrical technology)

データ種別	図書
出版者	New York : Plenum Press
出版年	c1991
本文言語	英語
大きさ	xvii, 237p. ; 26 cm
著者標目	*Roosmalen, A. J. van Baggerman, J. A. G. Brader, S. J. H.

巻　次	配架場所	請求記号	登録番号	コメント	刷　年	状　態	利用注記	ISBN	予約	請求メモ
	射水-1階-洋書	549.7\|\|R67	101139525						予約		予約

一般注記	Includes bibliographical references and index
件　名	LCSH:Semiconductors -- Etching 全ての件名で検索 LCSH:Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching
分　類	LCC:TK7871.85 DC20:621.381/52
書誌ID	B000086904
ISBN	0306438356
NCID	BA12663213