OPAC

Characterization of plasma-enhanced CVD processes : symposium held Novermber 27-28, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A. / editors, Gerald Lucovsky, Dale E. Ibbotson, Dennis W. Hess
(Materials Research Society symposium proceedings ; v. 165)

データ種別	図書
出版者	Pittsburgh, Pa. : Materials Research Society
出版年	c1990
本文言語	英語
大きさ	ix, 250 p. ; 24 cm
著者標目	Lucovsky, G. Ibbotson, Dale E. Hess, Dennis W.

巻　次	配架場所	請求記号	登録番号	コメント	刷　年	状　態	利用注記	ISBN	予約	請求メモ
	射水-1階-洋書	501\|\|MA71\|\|165	101123099						予約		予約

一般注記	Includes bibliographical references and index
件　名	LCSH:Plasma-enhanced chemical vapor deposition -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Integrated circuits -- Design and construction -- Congresses 全ての件名で検索
分　類	LCC:TS695.15 DC20:621.381/52
書誌ID	B000050487
ISBN	1558990534
NCID	BA11202521