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フォトマスク : デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術 / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久共著

データ種別 図書
出版者 東京 : 東京電機大学出版局
出版年 2011.4
本文言語 日本語
大きさ 323p, 図版2枚 ; 21cm
著者標目 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ>
竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ>
法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ>

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射水-1階-和書 549.7||Ta83 101706513


9784501328207

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別書名 標題紙タイトル:Photomask technology
一般注記 参考文献: 各章末
件 名 BSH:リソグラフィー
分 類 NDC8:549.7
NDC9:549.7
書誌ID B000106717
ISBN 9784501328207
NCID BB05599166

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