このページのリンク

ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)

データ種別 図書
普及版
出版者 東京 : シーエムシー出版
出版年 2007.4
本文言語 日本語
大きさ vi, 253p : 挿図 ; 21cm
著者標目  山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ>

所蔵情報を非表示


射水-1階-和書 549.7||Y42 101683274
2007
9784882319214

書誌詳細を非表示

別書名 その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist
一般注記 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
文献: 各章末
件 名 BSH:リソグラフィー
BSH:ナノテクノロジー
分 類 NDC8:549.7
NDC9:549.7
NDC7:549.3
書誌ID B000104845
ISBN 9784882319214
NCID BA81772932

 類似資料