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ニュウモンフォトマスクギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノタメノフォトマスク
入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著

データ種別	図書
出版者	東京 : 工業調査会
出版年	2006.12
本文言語	日本語
大きさ	323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm
著者標目	田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ> 竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ> 法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ>

巻　次	配架場所	請求記号	登録番号	コメント	刷　年	状　態	利用注記	ISBN	予約	請求メモ
	射水-1階-和書	549.7\|\|Ta83	101606630						予約		予約

別書名	標題紙タイトル:Introduction to photomask technology 異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク
一般注記	参考文献: 各章末
件　名	BSH:リソグラフィー
分　類	NDC8:549.7 NDC9:549.7
書誌ID	B000098990
ISBN	4769312598
NCID	BA79886837