OPAC

Dry processing for submicrometer lithography : 12-13 October 1989, Santa Clara, California / James Bondur, Alan R. Reinberg, chairs/editors : sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering
(Proceedings / SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 1185)

データ種別	図書
出版者	Bellingham, Wash., USA : The Society
出版年	c1990
本文言語	英語
大きさ	vii, 307 p. : ill. ; 28 cm
著者標目	Bondur, James Reinberg, Alan R. Society of Photo-optical Instrumentation Engineers

巻　次	配架場所	請求記号	登録番号	コメント	刷　年	状　態	利用注記	ISBN	予約	請求メモ
	射水-1階-洋書	549.8\|\|D92	101100543						予約		予約

一般注記	Includes bibliographical references and index
件　名	LCSH:Semiconductors -- Etching -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Lithography, Electron beam -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Ion beam lithography -- Congresses 全ての件名で検索
分　類	LCC:TK7871.85 DC20:621.381/52
書誌ID	B000048773
ISBN	0819402214
NCID	BA24466399