Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
データ種別 | 図書 |
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版 | 2nd ed |
出版者 | Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience |
出版年 | c2005 |
本文言語 | 英語 |
大きさ | xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm |
著者標目 | *Lieberman, M. A. (Michael A.) Lichtenberg, Allan J |
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巻 次 | 配架場所 | 請求記号 | 登録番号 | コメント | 刷 年 | 状 態 | 利用注記 | ISBN | 予約 | 請求メモ |
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射水-1階-洋書 | 427.6||L62||2ed | 101750800 |
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2005 |
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0471720011 | |||
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射水-1階-洋書 | 427.6||L62||2ed | 101750818 |
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2005 |
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0471720011 |
書誌詳細を非表示
一般注記 | Includes bibliographical references (p. 735-748) and index |
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件 名 | LCSH:Plasma dynamics LCSH:Thin films -- Surfaces 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching LCSH:Plasma chemistry -- Industrial applications 全ての件名で検索 |
分 類 | LCC:QC718.5.D9 DC22:530.4/4 |
書誌ID | B000013597 |
ISBN | 9780471720010 |
NCID | BA72469354 |
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