ヒラオ, タカシ
平尾, 孝
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| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 一般注記 | 博士論文 Studies on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings, 1989 金沢大学大学院自然科学研究科 松下電気産業(株)中央研究所(1992年4月現在) EDSRC:薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝〔ほか〕共著(工業調査会, 1997.7) |
| から見よ参照 | Hirao, Takashi |
| コード類 | 典拠ID=AU00046034 NCID=DA0549966X |
| 1 | 薄膜作製応用ハンドブック / 多賀康訓 [ほか] 編集委員 東京 : エヌ・ティー・エス , 1995.11 |
| 2 | イオン工学技術の基礎と応用 / 平尾孝 [ほか] 共著 東京 : 工業調査会 , 1992.4 |