イシイ, トシオ
石井, 淑夫
著者名典拠詳細を表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 一般注記 | 1968年 東京都立大学大学院理学研究科(化学)博士課程単位修了 1989年現在 鶴見大学歯学部助教授 |
| コード類 | 典拠ID=AU00012814 NCID=DA04085628 |
| 1 | 材料表面の親水・親油の評価と制御設計 / 石井淑夫監修 東京 : テクノシステム , 2016.7 |
| 2 | よいLB膜をつくる実践的技術 / 石井淑夫著 東京 : 共立出版 , 1989.12 |