マエダ, カズオ
前田, 和夫 (1935-)
著者名典拠詳細を表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 一般注記 | アプライドマテリアルズジャパン(株)センター長 専攻:半導体プロセス技術,気相成長技術 《同名》 |
| 生没年等 | 1935- |
| コード類 | 典拠ID=AU00009039 NCID=DA01624690 |
| 1 | はじめての半導体製造装置 / 前田和夫著 東京 : 技術評論社 , 2011.8 |
| 2 | はじめての半導体プロセス / 前田和夫著 東京 : 技術評論社 , 2011.8 |
| 3 | はじめての半導体ナノプロセス / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 2004.2 |
| 4 | はじめての半導体プロセス / 前田和夫著 東京 : 工業調査会 , 2000.12 |
| 5 | ULSI製造装置実用便覧 / 菅原活郎、前田和夫編 東京 : サイエンスフォーラム , 1991.11 |