フルカワ, セイジロウ
古川, 静二郎(1934-)
著者名典拠詳細を表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 場所 | 函館 |
| 一般注記 | 東京工業大学 ULSIプロセスの基礎技術, 1991: 執筆者一覧 半導体デバイス EDSRC:電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著(森北出版, 1990.3): 奥付の記述(函館市生)によるPLACEの追加。 |
| 生没年等 | 1934 |
| コード類 | 典拠ID=AU00001248 NCID=DA00241925 |
| 1 | 電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著 第2版. - 東京 : 森北出版 , 2014.1 |
| 2 | ULSIプロセスの基礎技術 / 古川静二郎編 ; 石原健 [ほか] 共著 東京 : 丸善 , 1991.3 |
| 3 | 電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著 東京 : 森北出版 , 1990.3 |
| 4 | 超微細加工入門 / 古川静二郎, 浅野種正共著 東京 : オーム社 , 1989.6 |
| 5 | 半導体デバイス / 古川静二郎執筆 東京 : コロナ社 , 1982.10 |