ハヤカワ, シゲル
早川, 茂

著者名典拠詳細を表示

著者の属性 個人
一般注記 工学博士
松下電器株式会社専務取締役技術本部長, (株)イオン工学センター社長
EDSRC:薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝〔ほか〕共著(工業調査会, 1997.7)
EDSRC:イオン工学技術の基礎と応用 / 平尾孝 [ほか] 共著(工業調査会, 1992.4)
コード類 典拠ID=AU00049903  NCID=DA00469253
1 薄膜化技術 / 和佐清孝, 早川茂著 第2版. - 東京 : 共立出版 , 1992.9
2 スパッタ技術 / 和佐清孝, 早川茂著 東京 : 共立出版 , 1988.6